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衍射极限附近的光刻工艺(第2版)

作者:编者:伍强//胡华勇//何伟明//... 出版社:清华大学
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  • 包装:平装
  • 出版社:清华大学
  • ISBN:9787302676119
  • 作者:编者:伍强//胡华勇//何伟明//岳力挽//张强等|
  • 页数:672
  • 出版日期:2024-11-01
  • 印刷日期:2024-11-01
  • 开本:16开
  • 版次:2
  • 印次:1
  • 字数:1117千字