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计算光刻与版图优化/集成电路技术丛书/中国科学院大学研究生教学辅导书系列

本书由 微电子研究所计算光刻科研团队撰写，系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论和关键技术。

作者：韦亚一|责编:李树林 出版社：电子工业
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  • 包装：平装
  • 出版社：电子工业
  • ISBN：9787121402265
  • 作者：韦亚一|责编:李树林
  • 页数：238
  • 出版日期：2021-01-01
  • 印刷日期：2021-01-01
  • 开本：16开
  • 版次：1
  • 印次：1
  • 字数：397千字
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